中美企業芯片專利對壘和解收場

文章來源: 中國知識產權報/中國知識產權資訊網
發布時間: 2019/7/11 10:46:00

    中美兩家芯片生產企業中微半導體設備(上海)有限公司(下稱中微半導體公司)和維易科精密儀器國際貿易(上海)有限公司(下稱上海維易科公司)在激烈的市場競爭中互相發起知識產權攻防戰:先是上海維易科公司的母公司美國維易科精密儀器公司(下稱美國維易科公司)于20174月在美國紐約東區地方法院提起針對中微半導體公司晶圓承載器供應商西格里碳素公司(下稱SGL公司)的專利侵權訴訟,請求法院發布禁令,禁止SGL公司向中微半導體公司出售采用了美國維易科公司金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)專利技術生產的晶圓承載器,包括專為中微半導體公司 MOCVD 設備設計的晶圓承載器,并得到法院支持;隨后,中微半導體公司于20177月在中國向福建省高級人民法院(下稱福建高院)起訴上海維易科公司侵犯其化學氣相沉積裝置(專利號:ZL201220056049.5)實用新型專利權,索賠上億元。然而,在國家知識產權局原專利復審委員會(下稱原專利復審委員會)作出維持中微半導體公司涉案專利權有效的審查決定后不久,這場備受關注的芯片企業知識產權大戰發生了戲劇性的變化,美國維易科公司、中微半導體公司、SGL公司共同于201829日宣布達成全球和解,終止三方之間的所有法律行動。

 

  中美芯片企業對壘

 

  芯片作為網絡時代的基石,在信息化社會的發展中具有無可比擬的重要性,正是因此,發生在中美兩家芯片企業之間的知識產權大戰受到了極大關注。

 

  據了解,芯片生產過程異常復雜,對于設備的要求極高,國際上最主要的芯片設備技術掌握在美國、日本企業手中。按照不同工序,芯片生產設備分為光刻設備、刻蝕設備、鍍膜設備、量測設備等,其中鍍膜設備按照生產工藝的不同,又分為物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)等多種。MOCVD設備屬于化學氣相沉積(CVD)設備,這種設備用于在晶圓表面鍍上金屬、氧化物、氮化物等各種不同的薄膜,從而形成局部晶體管結構。常見的如LED燈芯片大多采用MOCVD設備生產。MOCVD設備近年來得到較快發展,目前已經占全部芯片設備市場的20%左右。

 

  在MOCVD設備領域,美國維易科公司具有世界領先的技術水平,掌握大量核心技術,占據了該設備生產和銷售的重要地位。中微半導體公司則是中國芯片設備生產商的后起之秀,由于致力于技術研發,已經成為國產MOCVD設備廠商中的領軍者,近年來提交了1200多件專利申請,其中涉及MOCVD設備的專利超過100件。

 

  目前,中微半導體公司與美國維易科公司已成為全球最主要的兩家MOCVD設備生產商。

 

  20174月,美國維易科公司率先在紐約東區地方法院提起專利侵權訴訟,指控SGL公司向中微半導體公司銷售的晶圓承載器侵犯其專利權。美國維易科公司不但提出了高額賠償要求,還請求法院發布臨時禁令,禁止SGL公司繼續向中微半導體公司出售晶圓承載器。晶圓承載器是MOCVD設備的核心組件之一。

 

  美國維易科公司的訴訟請求如果獲得法院支持,不但會對中微半導體公司構成嚴重影響,還會對國內眾多下游LED企業造成嚴重影響。

 

  在此背景下,中微半導體公司采取了反擊措施。20177月,中微半導體公司向福建高院起訴上海維易科公司侵犯其化學氣相沉積裝置(專利號:ZL201220056049.5)實用新型專利權,索賠上億元。同樣,中微半導體公司請求福建高院發布禁令,禁止上海維易科公司進口、制造、向任何第三方銷售或許諾銷售侵犯中微半導體公司專利的晶圓承載器產品。

 

  上海維易科公司旋即向原專利復審委員會提起針對化學氣相沉積裝置(專利號:ZL201220056049.5)的專利權無效宣告請求。

 

  無效決定促成和解

 

  化學氣相沉積裝置(專利號:ZL201220056049.5)的專利權是否有效成了中微公司反擊能否成功的決定性因素,因而受到極高關注。

 

  該專利涉及一種化學氣相沉積裝置,其中托盤受到旋轉軸頂部支撐,并通過二者之間的摩擦力使得托盤圍繞旋轉軸轉動;同時還包括一個同步運動配合結構,用于防止旋轉軸和托盤發生相對運動。

 

  在現有技術中,二者的連接方式是通過螺釘固定連接,使托盤永久安裝在轉軸上。這種方式能夠保證托盤和轉軸的旋轉完全同步,并且使使用過程中的振動減到最小,但是它也存在一些缺陷,比如,對安裝精度要求極高,稍有偏差就會導致托盤無法保持水平,而且難以拆卸,維護和更換程序復雜,成本較高。

 

  采用涉案專利技術則既能實現自平衡,又能防止轉軸和托盤之間發生相對位移,以保證對托盤上基片的精準定位。

 

  上海維易科公司作為請求人認為,該專利不具備新穎性或創造性。

 

  但合議組經審理認為,上海維易科公司提供的證據雖然分別具有摩擦傳動和接觸傳動的方案,但并未給出兩者結合的啟示,且對于兩種傳動共同使用均給出了相反的技術教導。因此,上海維易科公司主張涉案專利不具備新穎性和創造性的理由不能成立。

 

  最終,合議組于201711月底作出審查決定,在專利權人修改后的權利要求書的基礎上維持專利權有效。

 

  該案合議組在接受本報記者采訪時表示,該案詮釋了發明構思的分析在技術特征比對和技術啟示判斷中的重要作用。合議組認為,發明構思體現了發明創造的技術本質。此案中,從發明構思的角度來分析,確定同步運動配合結構和獨立保持裝置這兩個相似的構件各自所解決的技術問題,更容易準確比對出二者是否相同。

 

  該專利權被宣告維持有效后,福建高院于201712月初作出裁定,同意了中微公司針對上海維易科公司提出的禁令申請,禁止上海維易科公司進口、制造、向任何第三方銷售或許諾銷售侵犯中微半導體公司專利的晶圓承載器產品。

 

  中國海關在福建高院禁令的基礎上,扣押了上海維易科公司進口到國內的涉嫌侵權產品。

 

  就在業界都以為雙方糾紛愈演愈烈、逐步升級之際,20182月初,美國維易科公司、中微半導體公司、SGL公司共同宣布達成全球和解,同意就三方之間的未決訴訟達成全球性和解,并友好地解決所有的未決紛爭,包括中微半導體公司在福建高院針對上海維易科公司的訴訟和美國維易科公司在美國紐約東區地方法院針對SGL公司的訴訟。作為和解內容的一部分,美國維易科公司、中微半導體公司和SGL公司及它們的附屬公司之間在全球范圍內所有的法律行動(在法院的、在專利局的及其他的)將會被撤訴或以其他方式撤回。

 

  在業內人士看來,原專利復審委員會作出的維持專利權有效的決定無疑是推動雙方和解的重要因素之一,類似案例凸顯專利作為有效的強力武器在企業角力中的重要作用,同時也提醒國內企業,在激烈的國際市場競爭中,應當充分重視提高自身的知識產權創造、運用和保護能力。

 

  決定亮點

 

  作為最接近的現有技術,證據1中通過摩擦配合使得晶片托架隨主軸旋轉,跟設置獨立保持裝置屬于兩個并列的技術方案,且證據1的發明目的在于避免CVD反應器中永久性安裝的基座存在的明顯增大晶片支撐組件總體的熱惰性和機械慣量的缺陷,因此證據1優選僅通過摩擦力使得晶片托架保持在主軸上,沒有任何保持裝置,由此能使托架-主軸組件的機械慣量減到最小,并能夠降低主軸上的應力。如果主軸必須突然停止,且施加在晶片托架上的慣性力超過它與主軸頂端之間的摩擦力,晶片托架就可能獨立于主軸旋轉,從而減小主軸上的應力。因此,證據1并不需要避免晶片托架和主軸之間的相對轉動,反而可通過相對轉動來減少主軸的應力。而且,在證據1中設置摩擦配合或者獨立保持裝置,其目的均是將晶片托架保持在主軸上,通過摩擦配合或獨立保持裝置均足以單獨實現上述目的,因此沒有必要將兩種方案同時使用。

 

  證據6中通過采用接觸傳動,避免了摩擦傳動引起的部件磨損,減少了生產成本。因此,證據6對于接觸傳動和摩擦傳動的共同使用也給出了相反的技術指導。而證據24中均未公開采用摩擦力驅動二者同步轉動的技術特征。

 

  此外,證據1中的獨立保持裝置、證據2中的驅動齒輪、證據4中的支持端以及證據6中的定位鍵和定位槽與本專利中的同步運動配合結構在功能上存在差異,上述證據中各裝置的作用均是通過接觸作用力保持主軸和托盤同步運動,接觸作用力在托盤的運動過程中必須時刻發揮作用,托盤和主軸之間不再需要摩擦力作用,因此這些裝置均為接觸傳動裝置。而本專利的同步運動配合結構其目的僅在于確保主軸和托盤不發生相對轉動,在托盤隨主軸的運動過程中,主要由摩擦傳動發揮作用,因此本專利的同步運動配合結構并不屬于接觸傳動裝置。據此,上述證據無法給出將摩擦傳動與同步運動配合結構相結合的技術啟示。(本報記者  祝文明)

 

 

  (編輯:蔣朔)

 

 

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